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Metallo che farfuglia obiettivo
(30)
Disco in Titanio 98x14mm 97x16mm ASTM F67 Per Protesi Orale
Prezzo: $32.00 - $38.00/ Piece
MOQ: 1 Piece
Tempo di consegna: 15~20 work days
Marca: CSTI
Evidenziare:ASTM F67 Titanium Disc, 98mm Titanium Disc, 97mm titanium discs
Titanium target is commonly used in the production of oral dentures, specifically for the manufacturing of implant-supported dentures. Titanium is a biocompatible material that is resistant to corrosion and has a high strength-to-weight ratio, making it an ideal material for dental implants. In the ... Visualizza di più
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OEM PVD 5N+ 99,9995% Titanio Obiettivi di alta purezza Obiettivi semiconduttori Film sottili
Prezzo: USD 60.0/pc - USD 180.0/pc
MOQ: 1 piece
Tempo di consegna: 15-25 work days
Marca: Changsheng
OEM PVD 5N+ 99.9995% Titanium Targets High Purity Semiconductor Targets Thin Films We offer high purity Titanium targets for all major PVD systems. Titanium Targets can be made in purities ranging from 3N to 5N+. Through control of the target metallurgy, oxygen content, surface finish and assembly t... Visualizza di più
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99.9%-99.999% Purezza Titanio Obiettivi La chiave per il successo della deposizione di film sottile
Prezzo: USD 60.0/pc - USD 180.0/pc
MOQ: 1 piece
Tempo di consegna: 15-25 work days
Marca: Changsheng
99.9%-99.999% Purity Titanium Targets The Key to Successful Thin Film Deposition We offer Titanium targets for all major PVD systems, and can be tailored for applications ranging from ultra-high performance to minimal-cost needs. Titanium Targets can be made in purities ranging from 3N to 5N+. Throu... Visualizza di più
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Indio legato HIP Metale bersaglio di sputtering per vari rivestimenti di pellicola
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:HIP Metal Sputtering Target, Indium Bonded Metal Sputtering Target, Film Coatings Metal Sputtering Target
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99.99% Purezza Pistola di rivestimento in polvere elettrostatica con finitura superficiale lucidata
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:HIP Round Electrostatic Powder Coating Gun, 99.99% Purity Electrostatic Powder Coating Gun,
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Metale legato all'indio, bersaglio per lo sputtering ad alta purezza, compatibile con vari substrati
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Various Substrates Sputtering Target, Indium Bonded Metal Sputtering Target, High Purity Sputtering Target
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Macchine per il rilevamento dei metalli con trasportatore rotondo lucidato Purezza 99,99%
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Round Polished Conveyor Metal Detector Machines, 99.99% Purity Conveyor Metal Detector Machines,
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Detettore di metallo a caduta libera per superfici lucidate
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Customized Round Hot Melt Glue Gun, Freefall Metal Detector, Polished Surfaces Hot Melt Glue Gun
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Obiettivi di sputtering ad alta purezza per la deposizione di pellicole sottili con controllo preciso
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Thin Film Deposition Sputtering Targets, Precise Control Sputtering Targets, High Purity Sputtering Targets
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Obiettivi di sputtering a purezza singola/moltiplicata personalizzati con superficie lucidata
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Customized Sputtering Targets, Multiple Purity Sputtering Targets, Polished Surface Sputtering Targets
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99.99% di purezza Sputtering Metale bersaglio con struttura cristallina di superficie lucidata
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Crystal Structure Metal Sputtering Target, Polished Surface Metal Sputtering Target, 99.99% Purity Metal Sputtering Target
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Obiettivo metallico personalizzato per rivestimenti a spruzzo configurazione singola o multipla Ra 0,8 Um
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Single Configuration Metal Sputtering Target, Multiple Configuration Metal Sputtering Target, Customized Metal Sputtering Target
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Indium alloy sputtering target con substrati personalizzati lucidati e anodizzati
Prezzo: Negotiable
MOQ: Negotiable
Tempo di consegna: Negotiable
Evidenziare:Customized Substrates Sputtering Target, Polished Sputtering Target, Anodized Sputtering Target
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99.995% di purezza Titanio Sputtering Target PVD Rivestimento di tubi rotanti bersagli
Prezzo: USD 100.0/pc - USD 180.0/pc
MOQ: 1 piece
Tempo di consegna: 15-25 work days
Marca: Changsheng
99.995% Purity Titanium Sputtering Target PVD Coating Rotary Tube Targets Titanium target is one of the commonly used targets for preparing thin film materials, and has been widely used in magnetron sputtering technology. Such as integrated circuits, decorative coating industry, flat display and so ... Visualizza di più
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Ti Ti-Al Zr Cr Metale bersaglio di sputtering per rivestimento PVD 100*40mm vendita a caldo
Prezzo: USD24/pc
MOQ: 200pcs
Tempo di consegna: 15~20 work days
Marca: Changsheng
Evidenziare:PVD Coating Metal Sputtering Target, 100*40mm Metal Sputtering Target,
Description Sputtering targets are materials from which thin films are grown by a sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. We have been providing sputtering target products of a variety of materials, purities, and shapes, by combining our technologies of me... Visualizza di più
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Grado di titanio dell'obiettivo di Gr5-Eli 23 blocchi per l'impianto dentario ASTM F136
Prezzo: 35usd/kg
MOQ: 10pc
Tempo di consegna: 10-15days
Marca: Changsheng
Evidenziare:Gr23 Titanium Target Block, Dental Implant Titanium Target Block, ASTM F136 Target Block
DescriptionTitanium Gr5-Eli Target is called Titanium Grade 23—Titanium alloy (6 % aluminum, 4 %vanadium with extra low interstitial elements, ELI)Titanium Gr5-Eli Target is a titanium alloy that is composed of 6 % aluminum, 4 % vanadium, and extra low interstitial elements (ELI).Titanium Gr23 Targe... Visualizza di più
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Titanio sputtering target Ti per rivestimento Ti Ti-Al Zr Cr per rivestimento PVD
Prezzo: 23usd/pc
MOQ: 50pcs
Tempo di consegna: 10-15days
Marca: Changsheng
Evidenziare:Polished Titanium Sputtering Target, Plating Titanium Sputtering Target, Titanium Metal Sputtering Target
Description Titanium Sputtering Target, Titanium is a material that is widely used in watches, biomedical implants, drill bits, laptops, etc. In its pure metal form, Titanium is lustrous and silvery-white in appearance. Titanium has a melting point of 1660°C, a density of 4.5 g/cc, and a vapor press... Visualizza di più
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Forma della piastra bersaglio per lo sputtering di cromo di alta purezza per la macchina di rivestimento PVD
Prezzo: USD24/pc
MOQ: 200pcs
Tempo di consegna: 15~20 work days
Marca: Changsheng
Evidenziare:High Purity Chromium Sputtering Target Plate, High Purity Target Plate, PVD Coating Machine Target Plate
Description Sputtering targets are materials from which thin films are grown by a sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. We have been providing sputtering target products of a variety of materials, purities, and shapes, by combining our technologies of me... Visualizza di più
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Prezzo di fabbrica personalizzato Obiettivi di titanio 100*40mm 100*45mm,95*45mm Rivestimento
Prezzo: USD24/pc
MOQ: 200pcs
Tempo di consegna: 15~20 work days
Marca: Changsheng
Evidenziare:Factory Price Customized titanium targets, Coating Titanium Targets,
Description Sputtering targets are materials from which thin films are grown by sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. We have been providing sputtering target products of a variety of materials, purities and shapes, by combining our technologies of melti... Visualizza di più
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Titanio SS 304 PVD Coating Sputtering Target 100*40mm 95*45mm 98*10mm per industria
Prezzo: USD24/pc
MOQ: 100pcs
Tempo di consegna: 15~20 work days
Marca: Changsheng
Evidenziare:Titanium Sputtering Targets, PVD Coating Sputtering Targets, SS 304 Sputtering Targets
Description Sputtering targets are materials from which thin films are grown by a sputtering method, and the targets are fabricated by processing metals or ceramics. We have been providing sputtering target products of a variety of materials, purities, and shapes, by combining our technologies of me... Visualizza di più
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